Hafnium–Aluminum–Zinc-Oxide Thin Films Grown by ALD for Transparent Conductive Oxide Applications

mgr Maciej Krajewski

Zakład Fizyki Ciała Stałego, Instytut Fizyki Doświadczalnej Wydział Fizyki

21 grudnia 2023 12:15, ul. Pasteura 5, sala 1.02